简述完善集成电路布图设计保护的措施。
（一）完善集成电路布图设计严格保护制度。
1.确定集成电路布图设计，保护政策导向和法律规制。
2.加大侵权假冒行为惩戒力度，强化民事司法保护，引入侵权惩罚性赔偿制度，大幅提高侵权法定赔偿额上限。
3.严格规范证据标准，规范司法、行政执法、仲裁、调解等不同渠道的证据标准。推进行政执法和刑事司法立案标准协调衔接，制定证据指引。
（二）构建集成电路布图设计大保护工作格局。
1.建立健全社会共治模式的大保护工作格局。培育、发展和完善集成电路布图设计仲裁，调解和公证工作机制。鼓励集成电路行业协会建立集成电路布图设计保护自律和信息沟通机制。
2.加强专业技术支撑，在司法救济和行政救济中引入技术调查官制度。
（三）突破集成电路布图设计专有权保护关键环节。
1.优化授权确权维权衔接程序。加强集成电路布图设计审查能力建设，压缩审查周期，提高审查质量，强化源头保护。
2.推动集成电路布图设计简易案件和纠纷快速处理。
3.加强集成电路布图设计专有权快速保护机构建设。在知识产权保护中心中，建立集成电路布图设计专有权案件快速受理和科学分流机制，提供快速审查，快速确权，快速维权的纠纷解决方案。加快重点技术领域集成电路布图设计专有权审查授权、确权和维权程序。
（四）塑造集成电路布图设计保护的优越环境。
1.推动国际协作，推动国家之间共享集成电路布图设计审查结果。
2.加强海外维权援助服务。完善海外集成电路布图设计专有权纠纷预警防范机制，加强重大案件跟踪研究，及时发布风险预警报告。开展海外集成电路布图设计这样的全球分应对指导，构建海外纠纷协调解决机制，建立海外维权专家顾问机制。
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