试比较集成电路布图设计专有权与著作权、专利权在创造性方面的不同？
无论是集成电路布图设计，还是作品、技术方案或设计，要想获得授权，都需要具有独创性，但三者在独创性方面的要求并不同，具体体现在：集成电路布图设计权的独创性要求“作者独立形成的智力成果”并且“不是公认的常规设计,要考虑集成电路布图设计在行业中的客观水平或先进性；著作权法的独创性是作者独立创作的智力成果，这种创作的智力成果水平不一定要求很高；专利的创造性要求技术方案至少要“有实质性特点+进步”。? ?
总之，集成电路布图设计的创造性水平比著作权的独创性高，比专利创造性水平低。
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